[发明专利]一种具有在线监测功能的化学气相沉积装置

摘要

本发明涉及一种具有在线监测功能的化学气相沉积装置，包括：生长腔、位于生长腔内的基片台、位于基片台上的薄膜衬底、位于生长腔内并相对位于薄膜衬底上方的喷淋头、位于生长腔外并用于监测生长于薄膜衬底表面薄膜表面平整度的第一测量装置、位于生长腔外并用于监测薄膜内部应力的第二测量装置及位于生长腔外并用于监测薄膜内残余应力的第三测量装置。本发明提供的化学气相沉积装置中利用相应监测装置监测薄膜生长过程中应力变化情况，以便于后期建立薄膜样品生长过程应力与生长条件的数据库，并进而在后续薄膜生长中根据数据库中相应数据选择适宜生长条件。