[发明专利]校正多个腔室压力传感器的方法及基板处理系统在审
| 申请号： | 202010138159.5 | 申请日： | 2020-03-03 |
| 公开（公告）号： | CN111678640A | 公开（公告）日： | 2020-09-18 |
| 发明（设计）人： | 松田梨沙子;纲仓纪彦;三浦和幸;庄司庆太 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | G01L27/00 | 分类号： | G01L27/00;H01L21/67 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 任玉敏 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 在示例性实施方式所涉及的基板处理系统中，多个气体供给部分别构成为经由其第1气体流路向多个腔室中的对应的腔室内供给气体。多个腔室压力传感器分别构成为测定对应的腔室内的压力。第2气体流路与多个气体供给部各自的第1气体流路连接。基准压力传感器构成为测定第2气体流路内的压力。在示例性实施方式所涉及的方法中，多个腔室压力传感器分别使用对应的腔室、对应的气体供给部的第1气体流路及第2气体流路内的压力被维持的状态下的其压力测定值及基准压力传感器的压力测定值来进行校正。 | ||
| 搜索关键词： | 校正 多个腔室 压力传感器 方法 处理 系统 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于东京毅力科创株式会社，未经东京毅力科创株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202010138159.5/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：阀控制器
- 下一篇：一种银离子杀菌贴膜及其制备方法与应用
