[发明专利]一种光响应型抗再沉淀剂及其制备方法和用途有效
| 申请号： | 202010133432.5 | 申请日： | 2020-03-02 |
| 公开（公告）号： | CN111269409B | 公开（公告）日： | 2022-11-04 |
| 发明（设计）人： | 秦承群;刘斌;殷玲;叶天;李付国;刘洋;石正阳;黎源 | 申请（专利权）人： | 万华化学集团股份有限公司 |
| 主分类号： | C08G65/26 | 分类号： | C08G65/26;C11D3/00;C11D3/37 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 264006 山东省*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种光响应型抗再沉淀剂及其制备方法和用途，以及制备该抗再沉淀剂的原料。所述抗再沉淀剂为特殊结构的取代偶氮苯。该抗再沉淀剂具有良好的抗再沉淀性，引入的氮氮双键使其具有光刺激响应性，也易于被检测。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 响应 型抗再 沉淀剂 及其 制备 方法 用途 | ||
【主权项】：
暂无信息
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