[发明专利]用于高产量处理腔室的工艺套件有效
申请号: | 202010128359.2 | 申请日: | 2015-12-21 |
公开(公告)号: | CN111218666B | 公开(公告)日: | 2022-03-15 |
发明(设计)人: | K·高希;M·G·库尔卡尼;S·巴录佳;祝基恩;S·金;王彦杰 | 申请(专利权)人: | 应用材料公司 |
主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 汪骏飞;侯颖媖 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本文公开了一种用于处理腔室的内部容积中的C形通道。在一个实施例中,所述C形通道包括:顶部环形部,所述顶部环形部具有穿过所述顶部环形部而形成的多个开口,所述多个开口将所述顶部环形部的顶表面与所述顶部环形部的底表面连接;底部环形部,所述底部环形部面向所述顶部环形部;中间环形部,所述中间环形部连接所述顶部环形部和所述底部环形部以形成C形主体,其中所述顶部环形部、所述底部环形部和所述中间环形部限定泵送区域,所述泵送区域通过穿过所述顶部环形部而形成的所述多个开口流体地耦接至所述内部容积;以及排气口,所述排气口形成在所述底部环形部的底表面中。 | ||
搜索关键词: | 用于 产量 处理 工艺 套件 | ||
【主权项】:
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的