[发明专利]立体光刻设备和用于调设立体光刻设备的方法有效
| 申请号： | 202010118237.5 | 申请日： | 2020-02-26 |
| 公开（公告）号： | CN111619105B | 公开（公告）日： | 2023-07-28 |
| 发明（设计）人： | M·韦特斯登;S·盖斯布尔勒 | 申请（专利权）人： | 伊沃克拉尔维瓦登特股份公司 |
| 主分类号： | B29C64/124 | 分类号： | B29C64/124;B29C64/264;B29C64/393;B33Y30/00;B33Y50/02 |
| 代理公司： | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人： | 李鸿达 |
| 地址： | 列支敦*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种立体光刻设备(100)，所述立体光刻设备包括：光源(101)，所述光源用于发出用于固化光固化材料(121)的光；传感器(103)，所述传感器用于确定所发出的光的光强度的实际值；和控制单元(105)，所述控制单元用于适配通过所述光源(101)的电流，直至所述光强度的实际值达到预给定的额定值为止，其中，所述立体光刻设备(100)构造用于经由数字微镜器件(113)将光从所述光源(101)转向到所述传感器(103)，所述数字微镜器件用于将光图案(123)投射到所述光固化材料(121)上。 | ||
| 搜索关键词： | 立体 光刻 设备 用于 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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