[发明专利]成膜装置、成膜方法以及电子器件制造方法有效
| 申请号： | 202010114404.9 | 申请日： | 2020-02-25 |
| 公开（公告）号： | CN111621762B | 公开（公告）日： | 2023-06-02 |
| 发明（设计）人： | 佐藤昌明 | 申请（专利权）人： | 佳能特机株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/54 | 分类号： | C23C14/54;C23C14/04;C23C14/12;C23C14/24;H01L21/68;H10K71/00 |
| 代理公司： | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人： | 刘杨 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供用于抑制蒸镀位置监视用的成膜速率测量部的更换周期的缩短的成膜装置、成膜方法以及电子器件制造方法。成膜装置的特征在于，包括：容器；第1蒸发源，设置在容器内，包括多个坩埚；第1成膜速率测量部，朝向第1蒸发源的第1位置地被设置；第2成膜速率测量部，朝向第1蒸发源的第2位置地被设置；第1可动式开闭部件，设置在与第1位置对应的位置；以及第1罩部件，设置在与第2位置对应的位置，且被设置成固定于容器，第1位置与第1成膜速率测量部之间的第1距离大于第2位置与第2成膜速率测量部之间的第2距离。 | ||
| 搜索关键词： | 装置 方法 以及 电子器件 制造 | ||
【主权项】：
暂无信息
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