[发明专利]一种基于光场EPI图像的深度估计方法有效

专利信息
申请号: 202010107015.3 申请日: 2020-02-21
公开(公告)号: CN111260707B 公开(公告)日: 2022-03-15
发明(设计)人: 张骏;李坤袁;郑阳;蔡洪艳;张旭东;孙锐;高隽 申请(专利权)人: 合肥工业大学
主分类号: G06T7/50 分类号: G06T7/50
代理公司: 安徽省合肥新安专利代理有限责任公司 34101 代理人: 陆丽莉;何梅生
地址: 230009 安*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 发明公开了一种基于光场EPI图像的深度估计方法,其步骤包括:1、对光场数据进行重聚焦,获取不同聚焦参数下的光场数据;2、从重聚焦后的光场数据中提取水平和垂直视角的子孔径图像;3、从子孔径图像中提取水平和垂直方向的光场EPI图像;4、搭建基于光场EPI图像关联推理的双支路深度估计模型,用所提取的水平和垂直方向EPI图像进行训练;5、利用训练好的深度估计模型对待处理的光场数据进行深度估计。本发明能充分利用EPI图像中心像素与邻域的关联性,并能利用光场重聚焦原理实现数据增强,从而能有效提高光场EPI图像深度估计的准确性。
搜索关键词: 一种 基于 epi 图像 深度 估计 方法
【主权项】:
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