[发明专利]一种基于光场EPI图像的深度估计方法有效
申请号: | 202010107015.3 | 申请日: | 2020-02-21 |
公开(公告)号: | CN111260707B | 公开(公告)日: | 2022-03-15 |
发明(设计)人: | 张骏;李坤袁;郑阳;蔡洪艳;张旭东;孙锐;高隽 | 申请(专利权)人: | 合肥工业大学 |
主分类号: | G06T7/50 | 分类号: | G06T7/50 |
代理公司: | 安徽省合肥新安专利代理有限责任公司 34101 | 代理人: | 陆丽莉;何梅生 |
地址: | 230009 安*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | 本发明公开了一种基于光场EPI图像的深度估计方法,其步骤包括:1、对光场数据进行重聚焦,获取不同聚焦参数下的光场数据;2、从重聚焦后的光场数据中提取水平和垂直视角的子孔径图像;3、从子孔径图像中提取水平和垂直方向的光场EPI图像;4、搭建基于光场EPI图像关联推理的双支路深度估计模型,用所提取的水平和垂直方向EPI图像进行训练;5、利用训练好的深度估计模型对待处理的光场数据进行深度估计。本发明能充分利用EPI图像中心像素与邻域的关联性,并能利用光场重聚焦原理实现数据增强,从而能有效提高光场EPI图像深度估计的准确性。 | ||
搜索关键词: | 一种 基于 epi 图像 深度 估计 方法 | ||
【主权项】:
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