[发明专利]一种硅基InGaAs激光器衬底的制备方法、衬底和激光器有效

专利信息
申请号: 202010079728.3 申请日: 2020-02-04
公开(公告)号: CN111262127B 公开(公告)日: 2022-06-10
发明(设计)人: 欧欣;赵舒燕;王长;林家杰;游天桂 申请(专利权)人: 中国科学院上海微系统与信息技术研究所
主分类号: H01S5/02 分类号: H01S5/02;H01S5/343
代理公司: 广州三环专利商标代理有限公司 44202 代理人: 郝传鑫;贾允
地址: 200050 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明提供一种硅基InGaAs激光器衬底的制备方法,包括:S1:在供体衬底上赝晶生长InxGa1‑xAs外延层薄膜;S2:外延层薄膜远离供体衬底的一面为注入面,自注入面向外延层进行离子注入和在注入面表面沉积第一金属层,注入的离子在外延层内形成剥离层;S3:在支撑衬底表面沉积第二金属层;S4:通过将第一金属层和第二金属层键合使得支撑衬底、第二金属层、第一金属层、外延层和供体衬底依次连接形成整体;S5:将键合后的整体进行退火处理,沿剥离层将供体衬底剥离,外延层转移至支撑衬底上形成硅基InGaAs衬底;本发明还提供一种衬底及激光器;本发明能够突破现有二元化合物晶格常数对激光器的限制,扩大生长在衬底上的激光器在材料选择和结构设计的自由度。
搜索关键词: 一种 ingaas 激光器 衬底 制备 方法
【主权项】:
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