[发明专利]抗蚀剂组成物及图案形成方法在审
| 申请号： | 202010078997.8 | 申请日： | 2020-02-03 |
| 公开（公告）号： | CN111522198A | 公开（公告）日： | 2020-08-11 |
| 发明（设计）人： | 藤原敬之;及川健一;大桥正树;小林知洋 | 申请（专利权）人： | 信越化学工业株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004;G03F7/00 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇;李茂家 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： |
本发明涉及抗蚀剂组成物及图案形成方法。本发明提供在以KrF准分子激光、ArF准分子激光、电子束、极端紫外线等高能射线作为光源的光刻中，光透射性、酸扩散抑制能力优异，DOF、LWR、MEF等光刻性能优异的抗蚀剂组成物、及使用该抗蚀剂组成物的图案形成方法。一种抗蚀剂组成物，包含(A)由下列式(1)表示的锍盐构成的光酸产生剂、(B)对显影液的溶解性会因酸的作用而变化的基础聚合物、及(C)有机溶剂。 |
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| 搜索关键词： | 抗蚀剂 组成 图案 形成 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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