[发明专利]一种高激光损伤阈值的中红外非线性光学晶体材料及其制备方法和应用有效
申请号: | 202010073039.1 | 申请日: | 2020-01-22 |
公开(公告)号: | CN111118600B | 公开(公告)日: | 2021-09-21 |
发明(设计)人: | 吴奇;刘贤 | 申请(专利权)人: | 湖北师范大学 |
主分类号: | G02F1/355 | 分类号: | G02F1/355;C30B29/12;C30B7/04;C30B7/14;C30B7/06 |
代理公司: | 黄石市三益专利商标事务所 42109 | 代理人: | 林晓珍 |
地址: | 435000*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: |
一种高激光损伤阈值的中红外非线性光学晶体材料及其制备方法和应用,所述晶体材料的化学式为Rb |
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搜索关键词: | 一种 激光 损伤 阈值 红外 非线性 光学 晶体 材料 及其 制备 方法 应用 | ||
【主权项】:
暂无信息
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