[发明专利]一种高激光损伤阈值的中红外非线性光学晶体材料及其制备方法和应用有效

专利信息
申请号: 202010073039.1 申请日: 2020-01-22
公开(公告)号: CN111118600B 公开(公告)日: 2021-09-21
发明(设计)人: 吴奇;刘贤 申请(专利权)人: 湖北师范大学
主分类号: G02F1/355 分类号: G02F1/355;C30B29/12;C30B7/04;C30B7/14;C30B7/06
代理公司: 黄石市三益专利商标事务所 42109 代理人: 林晓珍
地址: 435000*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 一种高激光损伤阈值的中红外非线性光学晶体材料及其制备方法和应用,所述晶体材料的化学式为Rb2CdI4,晶体空间群均为Ama2,晶胞参数为:a=11.8183(10)Å,b=12.1286(17)Å,c=8.6206(10)Å,α=β=γ=90,Z=4;制备时,是将RbI和CdBr2·4H2O溶于丙酮和水的混合溶液中,采用溶液法制备即可得到Rb2CdI4;本发明的中红外非线性光学晶体材料有强的可相位匹配的二阶非线性光学效应,在可见光区和红外光区有较宽的透光窗口,具有很高的激光损伤阈值和热稳定性,合成方法操作简单、反应时间短、实验条件温和、产品纯度高,能广泛应用于光学领域。
搜索关键词: 一种 激光 损伤 阈值 红外 非线性 光学 晶体 材料 及其 制备 方法 应用
【主权项】:
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