[发明专利]用于制造显示面板的新型掩模版及其制备方法

摘要

本申请公开一种用于制造显示面板的新型掩模版及其制备方法，该新型掩模版的透光区域中包括与遮光区域连接的多曝光区域，多曝光区域为制造显示面板过程中进行拼接曝光的多个曝光区域之间的重叠区域；多曝光区域中划分有一个或多个单元子区域，单元子区域中填充有冗余图形，单元子区域中被冗余图形覆盖的区域不透光。本申请的新型掩模版边缘的多曝光区域中填充有不透光的冗余图形，冗余图形能减少多曝光区域的曝光量，使多曝光区域内的曝光量分布趋近于其他区域的曝光量分布，使掩模版边缘的曝光剂量均匀分布，达到良好的曝光效果。对于面板制造光刻设备精度不允许对掩模版的移动距离做精细调整的情况下，采用该新型掩模版能使曝光量分布更加均匀。