[发明专利]同位素分段压裂示踪技术在审

专利信息
申请号: 202010055998.0 申请日: 2020-01-18
公开(公告)号: CN113137220A 公开(公告)日: 2021-07-20
发明(设计)人: 邬传威;梁金慧;孟韬 申请(专利权)人: 天津大港油田圣达科技有限公司
主分类号: E21B43/26 分类号: E21B43/26;E21B47/11
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 300270 天津*** 国省代码: 天津;12
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摘要: 发明公开了一种同位素分段压裂示踪技术,包括以下施工步骤:S1:施工设计,制定测试实施方案,选择所需的同位素示踪剂种类,根据井组的井距、储层厚度、孔隙度、含水率、连通系数及仪器、最低检测限等资料,按下列步骤及公式计算出使用的同位素示踪剂用量:首先,计算注入地层的最大稀释体积:Vp=A·H·Sw·η,其次,计算示踪剂的投加量:Q=μ·MDL·Vp;S2:现场施工,压裂施工时,可以从混砂车加入示踪剂。本发明所述的一种同位素分段压裂示踪技术,同位素压裂示踪技术可定性与定量分析压裂液对地层的作用,通过监测各个时段压裂返排液中各示踪剂的浓度间接反映体积压裂过程中各段压裂液的返排效果及压裂措施效果。
搜索关键词: 同位素 分段 压裂示踪 技术
【主权项】:
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