[发明专利]光生阴极保护层状双金属氢氧化物薄膜的制备方法及用途在审

专利信息
申请号: 202010049150.7 申请日: 2020-01-16
公开(公告)号: CN111235582A 公开(公告)日: 2020-06-05
发明(设计)人: 胡吉明;周明杰 申请(专利权)人: 浙江大学
主分类号: C23F13/12 分类号: C23F13/12;C25D9/08;C25D7/00
代理公司: 杭州求是专利事务所有限公司 33200 代理人: 林松海
地址: 310058 浙江*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明公开了光生阴极保护层状双金属氢氧化物薄膜的制备方法及用途。将金属基体浸没在含特定的不同种类混合金属盐溶液中,于三电极体系中进行沉积,以金属基体作为工作电极,铂片电极作为辅助电极,在金属基体上施加阴极电位,金属表面发生局部碱化反应,使不同金属离子以氢氧化物形式共沉积在金属基体表面。采用该方法制备的LDHs薄膜与金属结合力良好,厚度可达微米级,解决了采用传统水热技术在金属表面难以直接沉积结合力良好的LDHs的不足。本发明提供的上述特定种类的电沉积LDHs的制备方法,其工艺简单,耗时短,具有良好的光生阴极保护能力,有望取代传统二氧化钛,在光生阴极保护领域实现广泛应用。
搜索关键词: 阴极保护 层状 双金属 氢氧化物 薄膜 制备 方法 用途
【主权项】:
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