[发明专利]一种PDMS/SiC功能梯度衬底及其制备方法与应用有效
| 申请号： | 202010038767.9 | 申请日： | 2020-01-14 |
| 公开（公告）号： | CN111152452B | 公开（公告）日： | 2023-04-18 |
| 发明（设计）人： | 兰红波;杨建军;张源值;朱晓阳;齐田宇;周龙健 | 申请（专利权）人： | 青岛理工大学 |
| 主分类号： | B29C64/112 | 分类号： | B29C64/112;H10K77/10;H10K50/00;H01L31/0392;H01L31/0445;B33Y10/00;B33Y70/10;B33Y80/00 |
| 代理公司： | 济南圣达知识产权代理有限公司 37221 | 代理人： | 张晓鹏 |
| 地址： | 266520 山东省青*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种PDMS/SiC功能梯度衬底及其制备方法与应用，该衬底中PDMS为基体材料，SiC为增强相；SiC的含量从衬底外侧至衬底内侧梯度增大，衬底外侧SiC含量的最小值为0‑5％，衬底内侧SiC含量的最大值为45‑55％；其中，所述衬底内侧为用于嵌入电子元器件和连接电路的一侧。衬底从外表面到内表面刚度逐渐增大，柔性逐渐变小。即衬底外表面良好的柔性确保其具有非常好的共形能力和可拉伸/弯曲特性，以满足实际工作环境和使用条件的要求；而衬底内表面一侧具有较高的刚度，以避免放置的电子元器件和打印连接电路由于过大变形导致电子元器件和连接电路的损坏(通过提高刚度约束限制过大的形变)，保证电子元器件具有稳定的电学性能。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 pdms sic 功能 梯度 衬底 及其 制备 方法 应用 | ||
【主权项】：
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