[发明专利]基于MEMS工艺的外凸式双层压力敏感膜、FP腔光纤声传感器在审

专利信息
申请号: 202010030449.8 申请日: 2020-01-13
公开(公告)号: CN111141379A 公开(公告)日: 2020-05-12
发明(设计)人: 江致兴;周俐娜;刘滕 申请(专利权)人: 中国地质大学(武汉)
主分类号: G01H9/00 分类号: G01H9/00;B81B7/02;B81C1/00
代理公司: 武汉知产时代知识产权代理有限公司 42238 代理人: 付春霞
地址: 430000 湖*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明提供一种基于MEMS工艺的外凸式双层压力敏感膜,包括软膜和镀在软膜下方的介质硬膜,所述软膜的直径大于介质硬膜的直径,所述软膜为由PDMS制成的橡胶膜或硅胶膜,所述介质硬膜包括若干第一介质层和若干第二介质层,所述第一介质层的折射率大于第二介质层的折射率,所述第一介质层和第二介质层由下至上依次交替层叠。本发明还提供一种FP腔光纤声传感器,利用该FP腔光纤声传感器收集透射光进行解调时,由于薄膜工艺使FP腔两个腔面的反射率接近99%,因此透射光谱为锐利的梳状谱线,此时,接收透射光,通过对光信号解调得到声压信号。本发明制作出的敏感膜外周形变量大,光纤模场直径范围内区域几乎无形变且反射率高。
搜索关键词: 基于 mems 工艺 外凸式 双层 压力 敏感 fp 光纤 传感器
【主权项】:
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