[发明专利]等离子体处理系统及其开合法拉第组件有效
| 申请号： | 202010021590.1 | 申请日： | 2020-01-09 |
| 公开（公告）号： | CN113113280B | 公开（公告）日： | 2022-06-10 |
| 发明（设计）人： | 刘海洋;胡冬冬;刘小波;李娜;程实然;郭颂;吴志浩;许开东 | 申请（专利权）人： | 江苏鲁汶仪器有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01L21/02 |
| 代理公司： | 南京经纬专利商标代理有限公司 32200 | 代理人： | 彭英 |
| 地址： | 221300 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种具有开合法拉第组件的等离子体处理系统及其开合法拉第组件。开合法拉第组件包括法拉第层，法拉第层包括旋钮、射频接入块、升降机构、若干环扇片；各环扇片均在旋钮的带动下能够同步围绕各自扇面上所设置的第一定位件旋转，并通过第二定位件与旋钮上的导向滑槽的导向连接而限制旋转幅度在第一极限位置、第二极限位置之间；当各环扇片处于第一极限位置时法拉第层处于闭合状态；当各环扇片处于第二极限位置时法拉第层处于打开状态，此时旋钮内侧中心区域完全暴露；因此本发明通过控制法拉第层的开、合来配合刻蚀和清洗工艺，实现了耦合窗的彻底清洗，同时刻蚀工艺时开合法拉第层处于打开状态，不会对刻蚀工艺有任何影响。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子体 处理 系统 及其 法拉第 组件 | ||
【主权项】：
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