[发明专利]控制等离子体的均匀性的方法和等离子体处理系统在审
| 申请号： | 202010012899.4 | 申请日： | 2020-01-07 |
| 公开（公告）号： | CN111430208A | 公开（公告）日： | 2020-07-17 |
| 发明（设计）人： | 罗栋铉;沈承辅;陈厦东;许敏宁;金教赫;宣钟宇;李在铉 | 申请（专利权）人： | 三星电子株式会社 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01L21/67 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 赵南;张帆 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 根据控制等离子体的均匀性的方法，通过使具有第一频率的第一RF信号脉冲化来产生包括第一RF脉冲的第一RF驱动脉冲信号，通过使具有的较低的第二频率的第二RF信号脉冲化来产生包括第二RF脉冲的第二RF驱动脉冲信号。将第一RF驱动脉冲信号和第二RF驱动脉冲信号施加到等离子体腔室的顶电极和/或底电极。基于第一RF脉冲和第二RF脉冲的时序来产生包括谐波控制脉冲的谐波控制信号。经由由谐波控制信号控制的谐波控制电路的间歇性激活和去激活，来减少第一RF驱动脉冲信号和第二RF驱动脉冲信号的谐波分量。通过基于RF脉冲的时序的控制来改善等离子体的均匀性。 | ||
| 搜索关键词： | 控制 等离子体 均匀 方法 处理 系统 | ||
【主权项】：
暂无信息
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