[发明专利]立体光刻设备以及用于校准立体光刻设备的方法有效
| 申请号： | 201980056479.1 | 申请日： | 2019-03-11 |
| 公开（公告）号： | CN112638624B | 公开（公告）日： | 2022-12-20 |
| 发明（设计）人： | S·德拉万提 | 申请（专利权）人： | 普兰梅卡有限公司 |
| 主分类号： | B29C64/124 | 分类号： | B29C64/124 |
| 代理公司： | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人： | 王庆华 |
| 地址： | 芬兰赫*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种立体光刻设备包括构建平台(8)，所述构建平台(8)经由球形接头(12)连接至可运动的框架(11)。所述球形接头(12)允许所述构建平台的沿所有方向的有限范围的运动。锁定机构(13)被构造成固定地锁定所述球形接头(12)，用以校准所述构建平台(8)的相对于所述曝光装置(6)的取向角，以使得所述构建平台的下表面(9)平行于所述曝光装置(6)的第二上表面(7)。所述球形接头(12)包括附接至所述构建平台(8)的球形构件(14)以及连接至所述框架(11)的承窝构件(16；16‑1，16‑2)。竖直引导件(18)布置于所述框架(11)中。所述承窝构件(16)被布置成可在所述引导件(18)内部并且沿着所述引导件(18)竖直地运动，以允许所述承窝构件(16)的相对于所述框架(11)的有限的竖直运动。所述锁定机构(13)被构造成还固定地锁定所述承窝构件(16；16‑1，16‑2)，用以校准所述构建平台的竖直位置，以确定所述构建平台(8)的相对于所述曝光装置(6)的第二上表面(7)的零水平。 | ||
| 搜索关键词： | 立体 光刻 设备 以及 用于 校准 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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