[实用新型]磁控真空镀膜机有效
| 申请号： | 201921885704.6 | 申请日： | 2019-11-04 |
| 公开（公告）号： | CN210886201U | 公开（公告）日： | 2020-06-30 |
| 发明（设计）人： | 吴炳照 | 申请（专利权）人： | 无锡福照玻璃镜业有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34 |
| 代理公司： | 无锡睿升知识产权代理事务所(普通合伙) 32376 | 代理人： | 姬颖敏 |
| 地址： | 214000 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及真空镀膜机技术领域，公开了磁控真空镀膜机，包括镀膜机座，镀膜机座上侧设有调节控制箱，镀膜机座的上方纵向设有与调节控制箱连接无底的镀膜机箱，镀膜机箱内的上侧设有与调节控制箱配合的磁控溅射装置，镀膜机箱下端的前后侧均设有与其密闭配合的镀膜机盖，且镀膜机盖内侧设有真空吸盘，镀膜机座上设有将镀膜机箱内腔抽真空的真空发生装置，镀膜机箱内横向设有圆环形镀膜隔板，圆环形镀膜隔板的内侧铰接有与其密闭配合可纵向翻转的镀膜翻板，圆环形镀膜隔板上设有带动镀膜隔板翻转的动力装置。本实用新型解决了现有磁控真空镀膜机在进行基片镀膜时，基片表面薄膜厚度不均匀的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 真空镀膜 | ||
【主权项】：
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