[实用新型]气相沉积炉及气相沉积系统有效
申请号: | 201921828411.4 | 申请日: | 2019-10-29 |
公开(公告)号: | CN211142169U | 公开(公告)日: | 2020-07-31 |
发明(设计)人: | 刘鑫培;朱小刚;刘慧敏 | 申请(专利权)人: | 苏州创瑞机电科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/513 | 分类号: | C23C16/513;C23C16/455;C23C16/52 |
代理公司: | 南京艾普利德知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 32297 | 代理人: | 陆明耀;顾祥安 |
地址: | 215000 江苏省苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本实用新型揭示了气相沉积炉及气相沉积系统,其中气相沉积炉,包括罩体及盖板,它们均连接一轴,罩体的侧壁上设置有第一气道、第二气道及第一电极及第二电极,第一电极电连接架设于罩体内的导电工件放置架,第二电极电连接位于罩体内且与导电工件放置架位置对应的导电板;盖板连接驱动其绕轴转动且在第一状态和第二状态之间切换的翻转驱动机构,第一状态下,盖板密封所述罩体的开口并与罩体形成一密封腔,第二状态下,盖板使罩体的开口保持敞开状态。本方案通过罩体与盖板形成腔体,且盖体可相对罩体翻转,极大的方便进行上下料作业,不需要采用微波发生器作为能量来源,有利于降低成本,盖板可以自动打开和关闭,效率高,易于操作。 | ||
搜索关键词: | 沉积 系统 | ||
【主权项】:
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的