[实用新型]真空腔室的密封结构有效

专利信息
申请号: 201921475113.1 申请日: 2019-09-05
公开(公告)号: CN210600478U 公开(公告)日: 2020-05-22
发明(设计)人: 黄奕宏;刘驰;秦超;尹国伟;刘瑶林;方明登;韩宁宁;曹术;陈锦杰;杨杰;庄庆波;林锋;邓慧建;黄露;徐星明;温业锋;陈浩;林伟龙 申请(专利权)人: 深圳市深科达智能装备股份有限公司
主分类号: F16L5/10 分类号: F16L5/10
代理公司: 深圳市壹品专利代理事务所(普通合伙) 44356 代理人: 江文鑫;唐敏
地址: 518103 广东省深圳市宝安区福永街*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 实用新型涉及密封结构的技术领域,公开了真空腔室的密封结构,包括具有真空腔室的腔体以及用于穿设线缆的穿线件;腔体的侧壁具有通孔,通孔连通真空腔室;穿线件插设在通孔中,穿线件上套设有第一密封圈,第一密封圈密封通孔与穿线件的外周之间的间隙;穿线件具有穿线孔,穿线孔连通真空腔室及腔体的外部;线缆穿过穿线孔,线缆上套设有第二密封圈,第二密封圈密封穿线孔与线缆之间的间隙;第一密封圈密封通孔与穿线件外周之间的间隙第二密封圈密封穿线孔与线缆之间的间隙;通过密封结构实现对真空腔室的密封作用,使得线缆不需要剪断也可以穿过腔体与外部连接,密封性能良好,方便实用。
搜索关键词: 空腔 密封 结构
【主权项】:
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