[实用新型]一种碳化硅生长设备的两用真空系统有效
申请号: | 201920971321.4 | 申请日: | 2019-06-26 |
公开(公告)号: | CN210117455U | 公开(公告)日: | 2020-02-28 |
发明(设计)人: | 周元辉;刘春艳;胡春霞;刘洪亮;刘洪涛;范子龙;高雅蕾;姜树炎 | 申请(专利权)人: | 苏州优晶光电科技有限公司 |
主分类号: | C30B29/36 | 分类号: | C30B29/36;F04B41/06 |
代理公司: | 北京兴智翔达知识产权代理有限公司 11768 | 代理人: | 蒋常雪 |
地址: | 215613 江苏省苏州市张*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种碳化硅生长设备的两用真空系统,包括腔体、机械泵和干式真空泵,腔体连通的管道上安装有一个机械泵,干式真空泵的输入端连通两个真空管,两个真空管均连通在腔体上,其中一个真空管上还安装有分子泵和第二电磁式高真空阀门,分子泵连通在干式真空泵和第二电磁式高真空阀门之间,腔体还连通有气体管,气体管上安装有第一电磁式高真空阀门,腔体内还安装有检测装置;本实用新型的两用真空系统通过检测装置检测腔体中的气体含量、温度和压力,并通过控制箱分析后,相应的按比例调节腔体内的真空环境,可以精确的控制腔体内的真空环境,避免挥发物对系统的影响,还可以为碳化硅生产提供适宜的真空环境,以便于生产碳化硅。 | ||
搜索关键词: | 一种 碳化硅 生长 设备 两用 真空 系统 | ||
【主权项】:
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