[实用新型]一种碳化硅生长设备的两用真空系统有效

专利信息
申请号: 201920971321.4 申请日: 2019-06-26
公开(公告)号: CN210117455U 公开(公告)日: 2020-02-28
发明(设计)人: 周元辉;刘春艳;胡春霞;刘洪亮;刘洪涛;范子龙;高雅蕾;姜树炎 申请(专利权)人: 苏州优晶光电科技有限公司
主分类号: C30B29/36 分类号: C30B29/36;F04B41/06
代理公司: 北京兴智翔达知识产权代理有限公司 11768 代理人: 蒋常雪
地址: 215613 江苏省苏州市张*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 实用新型公开了一种碳化硅生长设备的两用真空系统,包括腔体、机械泵和干式真空泵,腔体连通的管道上安装有一个机械泵,干式真空泵的输入端连通两个真空管,两个真空管均连通在腔体上,其中一个真空管上还安装有分子泵和第二电磁式高真空阀门,分子泵连通在干式真空泵和第二电磁式高真空阀门之间,腔体还连通有气体管,气体管上安装有第一电磁式高真空阀门,腔体内还安装有检测装置;本实用新型的两用真空系统通过检测装置检测腔体中的气体含量、温度和压力,并通过控制箱分析后,相应的按比例调节腔体内的真空环境,可以精确的控制腔体内的真空环境,避免挥发物对系统的影响,还可以为碳化硅生产提供适宜的真空环境,以便于生产碳化硅。
搜索关键词: 一种 碳化硅 生长 设备 两用 真空 系统
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于苏州优晶光电科技有限公司,未经苏州优晶光电科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201920971321.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top