[实用新型]磁控溅射纳米疏水膜制备装置有效
| 申请号： | 201920781324.1 | 申请日： | 2019-05-28 |
| 公开（公告）号： | CN209974877U | 公开（公告）日： | 2020-01-21 |
| 发明（设计）人： | 钱锋 | 申请（专利权）人： | 深圳市天星达真空镀膜设备有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/56 |
| 代理公司： | 11400 北京商专永信知识产权代理事务所(普通合伙) | 代理人： | 高之波;吴少东 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市坪山*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本实用新型公开了一种磁控溅射纳米疏水膜制备装置，包括真空室、蒸发室、真空获得系统、真空计、充气系统、磁控溅射系统、转架和加热丝，所述磁控溅射系统包括偏压电源和磁控溅射阴极，所述偏压电源分别与转架和磁控溅射阴极电连接，所述磁控溅射阴极和真空计安装在真空室上，所述转架和加热丝安装在真空室内，所述蒸发室位于真空室下方，并与真空室通过管道相连通，所述蒸发室内设有电阻蒸发器，所述转架位于磁控溅射阴极与蒸发室之间，所述充气系统和真空获得系统分别与真空室相连接。本实用新型同时具备了磁控溅射镀膜和蒸发镀膜这两种工艺，避免了镀膜过程中基片和镀料需要频繁装卸的问题，提高了镀膜效率和膜层的牢固性。 | ||
| 搜索关键词： | 真空室 磁控溅射阴极 转架 蒸发室 磁控溅射系统 真空获得系统 本实用新型 充气系统 偏压电源 真空计 磁控溅射镀膜 室内 加热丝安装 磁控溅射 镀膜过程 镀膜效率 蒸发镀膜 制备装置 电连接 加热丝 牢固性 疏水膜 蒸发器 电阻 镀料 膜层 蒸发 装卸 | ||
【主权项】：
1.磁控溅射纳米疏水膜制备装置，其特征在于，包括真空室(1)、蒸发室(2)、真空获得系统(3)、真空计(4)、充气系统(5)、磁控溅射系统(6)、转架(7)、加热丝(8)和基片(10)，所述基片(10)放置在转架(7)上，所述磁控溅射系统(6)包括偏压电源(61)和磁控溅射阴极(62)，所述偏压电源(61)分别与基片(10)和磁控溅射阴极(62)电连接，所述磁控溅射阴极(62)和真空计(4)安装在真空室(1)上，所述转架(7)和加热丝(8)均安装在真空室(1)内，所述蒸发室(2)位于真空室(1)下方，并与真空室(1)通过管道相连通，所述蒸发室(2)内设有电阻蒸发器(21)，所述转架(7)位于磁控溅射阴极(62)与蒸发室(2)之间，所述充气系统(5)与真空室(1)相连接，所述真空获得系统(3)与真空室(1)相连接。/n
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