[实用新型]过程控制系统以及用于接近开关的目标磁体机构有效
| 申请号： | 201920199783.9 | 申请日： | 2019-02-14 |
| 公开（公告）号： | CN210120544U | 公开（公告）日： | 2020-02-28 |
| 发明（设计）人： | M·西蒙斯 | 申请（专利权）人： | 通用设备和制造公司 |
| 主分类号： | H03K17/95 | 分类号： | H03K17/95 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 胡欣 |
| 地址： | 美国肯*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及过程控制系统以及用于接近开关的目标磁体机构。该目标磁体机构包括以交替磁极配置设置的多个磁体，交替磁极配置形成变窄的极性反转磁场。中心磁体具有与接近开关的感测磁体的磁极性相反的磁极性。侧翼磁体包括与中心磁体的磁极性相反并且与感测磁体的磁极性相同的磁性极。如此配置，该多个磁体通过经由中心磁体和感测磁体的相反极性对接近开关的磁场进行拉动来将接近开关触发到激活状态。另外，该多个磁体通过经由侧翼磁体和感测磁体的相同极性对接近开关的磁场进行推动来将接近开关释放回到未激活状态。 | ||
| 搜索关键词： | 过程 控制系统 以及 用于 接近 开关 目标 磁体 机构 | ||
【主权项】：
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