[实用新型]一种双排离子刻蚀微调机构及离子刻蚀设备有效
申请号: | 201920145503.6 | 申请日: | 2019-01-28 |
公开(公告)号: | CN209357692U | 公开(公告)日: | 2019-09-06 |
发明(设计)人: | 廖占武 | 申请(专利权)人: | 北京精恒工控科技有限公司 |
主分类号: | H01J37/32 | 分类号: | H01J37/32 |
代理公司: | 北京华仲龙腾专利代理事务所(普通合伙) 11548 | 代理人: | 李静 |
地址: | 101118 北京市*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本实用新型涉及离子刻蚀技术领域,具体是一种双排离子刻蚀微调机构及离子刻蚀设备,双排离子刻蚀微调机构包括双排测试头、双排测试探针、离子枪、双排挡板机构、工件托盘和双排石墨分流板,双排挡板机构上位于离子枪的上方设置有双排石墨分流板,离子枪的底部设置有氩离子进口,双排挡板机构的上方设置有工件托盘,工件托盘的上方设置有双排测试头,双排测试头的下方设置有双排测试探针,双排测试头与测量系统电性连接进行信号传输,本实用新型,在原有基础增加一倍挡板数量,能刻蚀和测量双排晶振,很大提高了测试系统的利用率,使测试效率提高了一倍,使得离子枪使用效率大幅度提高,生产效率比原有基础大大提高。 | ||
搜索关键词: | 双排 测试头 离子枪 工件托盘 离子刻蚀 双排挡板 微调机构 离子刻蚀设备 本实用新型 测试探针 分流板 石墨 离子刻蚀技术 挡板 测量系统 测试系统 测试效率 电性连接 生产效率 使用效率 信号传输 氩离子 晶振 刻蚀 测量 进口 | ||
【主权项】:
1.一种双排离子刻蚀微调机构,包括双排测试头(21)、双排测试探针(22)、离子枪(11)、双排挡板机构(14)、工件托盘(13)和双排石墨分流板(25),所述离子枪(11)设置于双排挡板机构(14)的中部下方,其特征在于,所述双排挡板机构(14)上位于离子枪(11)的上方设置有双排石墨分流板(25),所述离子枪(11)的底部设置有氩离子进口(12),所述双排挡板机构(14)的上方设置有工件托盘(13)。
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