[发明专利]一种高品质因数的薄膜体声波谐振器的优选结构有效

专利信息
申请号: 201911392114.4 申请日: 2019-12-30
公开(公告)号: CN111049495B 公开(公告)日: 2021-05-04
发明(设计)人: 赵洪元;朱健 申请(专利权)人: 中国电子科技集团公司第五十五研究所
主分类号: H03H9/17 分类号: H03H9/17;H03H9/02;H03H9/13
代理公司: 南京经纬专利商标代理有限公司 32200 代理人: 吴树山
地址: 210016 江苏*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及一种高品质因数的薄膜体声波谐振器的优选结构,包括上表面带有凹槽的衬底、位于衬底上方的底电极层、压电层,其特征在于,还包括带有异形空气桥结构的顶电极层,该空气桥结构内设有可起到对横向声波回弹作用的声回弹结构;该声回弹结构为与异形空气桥结构的桥腔相向的凸形或梯形多面体并以卧式设置在异形空气桥结构的桥腔上方区域,该声回弹结构的顶端面嵌入并与异形空气桥结构的桥腔仰顶面凹槽紧贴,该声回弹结构的底端面与异形空气桥结构的桥腔下方区域悬空结构之间留有空气间隙,该声回弹结构的左侧面和右侧面分别嵌入并与异形空气桥结构的桥腔支撑结构相邻的内侧面的凹槽紧贴。本发明能够显著提升薄膜体声波谐振器的品质因数。
搜索关键词: 一种 品质因数 薄膜 声波 谐振器 优选 结构
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国电子科技集团公司第五十五研究所,未经中国电子科技集团公司第五十五研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201911392114.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top