[发明专利]气体分配装置及等离子体处理装置有效
| 申请号： | 201911328999.1 | 申请日： | 2019-12-20 |
| 公开（公告）号： | CN113013011B | 公开（公告）日： | 2022-11-29 |
| 发明（设计）人： | 杨金全;王晓雯;王兆祥 | 申请（专利权）人： | 中微半导体设备（上海）股份有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 上海元好知识产权代理有限公司 31323 | 代理人： | 徐雯琼;张静洁 |
| 地址： | 201201 上海市浦东新*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种气体分配装置，包括气体挡板及安装基板，气体挡板包括中心气体入口、边缘气体入口、中心气体扩散区域及边缘气体扩散区域，中心气体扩散区域与边缘气体扩散区域之间的区域设置有环形气体通道及环形容纳通道，环形气体通道与环形容纳通道交错设置；安装基板上设置有贯穿安装基板表面的孔道，孔道与中心气体扩散区域、边缘气体扩散区域及环形气体通道相连通；气体自中心气体入口和/或边缘气体入口流入至相应的气体扩散区域并向环形气体通道与环形容纳通道内扩散，于任一环形容纳通道内设置环形密封圈，以限制气体的扩散，从而将气体限制于所需区域的气体扩散区域与通道内，进而进一步使气体释放至对应区域的孔道内。 | ||
| 搜索关键词： | 气体 分配 装置 等离子体 处理 | ||
【主权项】：
暂无信息
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