[发明专利]石墨插层化合物及其制备方法和应用有效
| 申请号： | 201911038862.2 | 申请日： | 2019-10-29 |
| 公开（公告）号： | CN112723353B | 公开（公告）日： | 2022-09-27 |
| 发明（设计）人： | 史春风;荣峻峰;宗明生 | 申请（专利权）人： | 中国石油化工股份有限公司;中国石油化工股份有限公司石油化工科学研究院 |
| 主分类号： | C01B32/22 | 分类号： | C01B32/22;B01J27/128;B01J21/18;C01B32/50 |
| 代理公司： | 隆天知识产权代理有限公司 72003 | 代理人： | 于磊;陈曦 |
| 地址： | 100728 北*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 提供一种制备石墨插层化合物的方法，在反应釜内利用气化的插层剂与石墨在大于所述插层剂气化的温度下进行插层反应，反应结束后排出气体状态的插层剂，进而得到所述石墨插层化合物；其中所述石墨放置于所述反应釜内的容器内，所述插层剂放置于所述反应釜的釜底。本发明还提供该方法制备的石墨插层化合物及其应用。本发明的方法，采用气化的插层剂于石墨反应，反应完成后排出气体状态的插层剂。不需要除去多余的插层剂，省去分离步骤，插层剂的用量少，节约用水。在原料加入阶段，插层剂和原料石墨分别放置在不相互接触的地方，不直接互相接触，装卸方便，原料石墨可占反应釜容积的1/3以上，处理量大，易于工业大批量生产。 | ||
| 搜索关键词： | 石墨 化合物 及其 制备 方法 应用 | ||
【主权项】：
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