[发明专利]磁性存储器及其制造方法有效
申请号: | 201911033480.0 | 申请日: | 2019-10-28 |
公开(公告)号: | CN111105824B | 公开(公告)日: | 2021-12-28 |
发明(设计)人: | 应继锋;王仲盛;林灿 | 申请(专利权)人: | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
主分类号: | G11C11/16 | 分类号: | G11C11/16;H01L43/08;H01L43/12;H01L27/22 |
代理公司: | 北京德恒律治知识产权代理有限公司 11409 | 代理人: | 章社杲;李伟 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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摘要: | 一种磁性存储器包括:设置在衬底上方的第一自旋轨道转移‑自旋扭矩转移(SOT‑STT)混合磁性器件、设置在衬底上方的第二SOT‑STT混合磁性器件以及连接至第一和第二SOT‑STT混合磁性器件的SOT导电层。第一SOT‑STT混合磁性器件和第二SOT‑STT混合磁性器件中的每个包括:第一磁性层,作为磁性自由层;间隔件层,设置在第一磁性层下方;以及第二磁性层,作为磁性参考层,设置在间隔件层下方。SOT导电层设置在第一SOT‑STT混合磁性器件和第二SOT‑STT混合磁性器件中的每个的第一磁性层上方。本发明的实施例还涉及磁性存储器的制造方法。 | ||
搜索关键词: | 磁性 存储器 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
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