[发明专利]一种抗闩锁效应的沟槽型绝缘栅晶体管器件有效

专利信息
申请号: 201911014906.8 申请日: 2019-10-24
公开(公告)号: CN110718586B 公开(公告)日: 2023-05-16
发明(设计)人: 阳平 申请(专利权)人: 上海擎茂微电子科技有限公司
主分类号: H01L29/739 分类号: H01L29/739;H01L29/06;H01L29/10
代理公司: 温州知远专利代理事务所(特殊普通合伙) 33262 代理人: 汤时达
地址: 201100 上海市*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明涉及一种抗闩锁效应的沟槽型绝缘栅晶体管器件,包括芯片本体,芯片本体的边缘为终端保护区,芯片本体包括N型基区、P型基区、P+接触区及N+发射区、N型场终止区、P型集电极区、集电极金属层、发射极金属,芯片本体的中部包括元胞区,元胞区内设有多个元胞,芯片本体的中部还包括与元胞区隔离的闩锁测试区,闩锁测试区内设有闩锁测试模块,闩锁测试模块包括两组测试端子组件,每组测试端子组件包括位于P+接触区上方并与P+接触区连接的闩锁测试端子。本发明的抗闩锁效应的沟槽型绝缘栅晶体管器件具有闩锁检测功能,能够防止器件由于闩锁现象造成损坏。
搜索关键词: 一种 抗闩锁 效应 沟槽 绝缘 晶体管 器件
【主权项】:
1.一种抗闩锁效应的沟槽型绝缘栅晶体管器件,包括芯片本体,芯片本体的边缘为终端保护区,芯片本体包括N型基区(240)、位于N型基区上方的P型基区(250)、位于P型基区上部的P+接触区(280)及N+发射极区(260)、位于N型基区下方的N型场终止区(230)、位于N型场终止区下方的P型集电极区(220)、位于P型集电极区下方的集电极金属层(210)、位于P型基区表面的发射极金属(211),芯片本体的中部包括元胞区,元胞区内设有多个元胞,其特征在于:芯片本体的中部还包括与所述元胞区隔离的闩锁测试区,闩锁测试区内设有闩锁测试模块,闩锁测试模块包括两组测试端子组件(310),每组测试端子组件包括位于P+接触区上方并与P+接触区连接的闩锁测试端子(311)。/n
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