[发明专利]一种UV增粘后可高温降粘的制程用的过程膜生产方法及其产品在审
| 申请号： | 201910893296.7 | 申请日： | 2019-09-20 |
| 公开（公告）号： | CN110591583A | 公开（公告）日： | 2019-12-20 |
| 发明（设计）人： | 孙攀;王健;牛建超 | 申请（专利权）人： | 上海精珅新材料有限公司 |
| 主分类号： | C09J7/25 | 分类号： | C09J7/25;C09J7/24;C09J7/38;C09J11/04 |
| 代理公司： | 31208 上海东亚专利商标代理有限公司 | 代理人： | 董梅 |
| 地址： | 201507 上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种UV增粘后可高温降粘的制程用的过程膜生产方法及其产品，过程膜包括：基材、压敏胶层和离型膜，基材至少一面经过电晕处理后，放置不少于3天；压敏胶层为UV增粘胶层，包含压敏胶层质量0.1%—5%的纳米晶珠和0.1—5%的光引发剂，涂覆于基材的电晕面上，UV后的剥离力为500—5000g/25mm；压敏胶层与离型膜的离型面进行覆合，并进行熟化。本发明生产方法得到的过程膜可以通过高温的方式，在UV增粘后粘力大幅度降低，解决了UV增粘膜在UV增粘后无法撕离的问题，使得生产过程中因贴合不良等原因需要撕离返工的问题得以解决，增加工艺过程的稳定性，同时提高了成品率和效率，应用于模组的制程过程。 | ||
| 搜索关键词： | 压敏胶层 增粘 基材 离型膜 撕离 制程 电晕处理 工艺过程 光引发剂 生产过程 剥离力 成品率 离型面 膜生产 纳米晶 粘膜 电晕 返工 覆合 降粘 胶层 模组 熟化 贴合 涂覆 应用 生产 | ||
【主权项】：
1.一种UV增粘后可高温降粘的制程用的过程膜生产方法，包括：基材（1）、压敏胶层（2）、离型膜（3），其特征在于，/n所述基材（1）为厚度25-200μm的PET、PC或COP光学薄膜，至少一面经过电晕处理后，在室温或40-60℃高温放置不少于3天；/n所述压敏胶层（2）为UV增粘胶层，包含压敏胶层质量0.1%—5%的纳米晶珠和0.1—5%的光引发剂，涂覆于基材（1）的电晕面之上并覆盖有离型膜（3），UV前剥离力为30—200g/25mm，UV后的剥离力为500—5000g/25mm；/n所述压敏胶层（2）与离型膜（3）的离型面进行覆合，并进行熟化。/n
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