[发明专利]缺陷检测方法及缺陷检测系统在审

专利信息
申请号: 201910838099.5 申请日: 2019-09-05
公开(公告)号: CN112444526A 公开(公告)日: 2021-03-05
发明(设计)人: 孟阳;王伟斌 申请(专利权)人: 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司;中芯国际集成电路制造(北京)有限公司
主分类号: G01N21/95 分类号: G01N21/95
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 徐文欣
地址: 201203 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 一种缺陷检测方法及缺陷检测系统,包括:提供晶圆,所述晶圆包括检测面;对所述检测面进行扫描,获取所述检测面的扫描图像,所述扫描图像包括若干第一单元图形;提供设计图像,所述设计图像包括与所述第一单元图形对应的若干第二单元图形;根据所述设计图像对所述扫描图像进行筛选,去除所述第一单元图形中的干扰缺陷单元图形。在本发明的技术方案中,通过将第一单元图形中的干扰缺陷单元图形进行部分筛选去除,有效减少了后续检测分析的第一单元图形的数量,缩短了检测时间,从而提高了检测效率。
搜索关键词: 缺陷 检测 方法 系统
【主权项】:
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