[发明专利]一种基于近场竖直向SAR成像的目标与环境耦合分析方法有效
| 申请号： | 201910823009.5 | 申请日： | 2019-09-02 |
| 公开（公告）号： | CN110389342B | 公开（公告）日： | 2021-07-20 |
| 发明（设计）人： | 高鹏程;冯明;安锐;徐秀丽 | 申请（专利权）人： | 上海无线电设备研究所 |
| 主分类号： | G01S13/90 | 分类号： | G01S13/90 |
| 代理公司： | 上海元好知识产权代理有限公司 31323 | 代理人： | 张妍;刘琰 |
| 地址： | 200090 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种基于近场竖直向SAR成像的目标与环境耦合分析方法，该方法包括以下步骤：S1、目标与环境竖直向SAR成像参数设置；S2、目标与环境竖直向SAR成像测量；S3、回波数据近场竖直向SAR成像处理；S4、基于竖直向SAR成像的目标与环境耦合散射分析。本发明将成像平面由传统的方位向变为俯仰向，实现目标、环境、以及耦合等不同部分的图像分离，能够准确识别与环境存在强耦合的目标主要部件，并分析耦合形成机理，为复杂环境中目标探测、识别、跟踪等提供理论依据和技术支撑。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 近场 竖直 sar 成像 目标 环境 耦合 分析 方法 | ||
【主权项】：
1.一种基于近场竖直向SAR成像的目标与环境耦合分析方法，其特征在于，包括以下步骤：S1、目标与环境竖直向SAR成像参数设置；S2、目标与环境竖直向SAR成像测量；S3、回波数据近场竖直向SAR成像处理；S4、基于竖直向SAR成像的目标与环境耦合散射分析。
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