[发明专利]一种负离子厚抛釉及其加工方法在审
| 申请号： | 201910712902.0 | 申请日： | 2019-08-02 |
| 公开（公告）号： | CN110255906A | 公开（公告）日： | 2019-09-20 |
| 发明（设计）人： | 全春辉;司金凯 | 申请（专利权）人： | 佛山市陶莹新型材料有限公司 |
| 主分类号： | C03C8/02 | 分类号： | C03C8/02;C03C8/14 |
| 代理公司： | 佛山市科策知识产权代理事务所(普通合伙) 44539 | 代理人： | 程国栋;李玉慧 |
| 地址： | 528000 广东省佛山*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种负离子厚抛釉，包括以下原料：钾长石、氧化锌、煅烧滑石、白云石、硫酸钡、碳酸锶、硅灰石、高岭土、石英、熔块、负离子粉，该厚抛釉的加工方法，包括步骤一，备料；步骤二，添料；步骤三，混料；步骤四，检验；步骤五，包装处理。该负离子厚抛釉在烧结砖中的使用方法，包括如下步骤：试验配比，根据负离子数、发色、防污指标配制原料；预处理，利用钟罩淋釉器向砖坯上喷淋面釉；喷墨，在预处理后的砖面上喷涂墨水图案；上釉，利用钟罩淋釉器向砖坯上喷淋负离子厚抛釉；烧制，将上釉后的砖坯送入窑炉中烧制，本发明的一种负离子厚抛釉及其加工方法，利用调整配方，以解决背景技术中结合负离子和厚抛优点的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 负离子 砖坯 预处理 钟罩淋釉器 上喷 上釉 烧制 白云石 加工 高岭土 包装处理 负离子粉 墨水图案 煅烧滑石 硅灰石 钾长石 硫酸钡 烧结砖 碳酸锶 氧化锌 备料 喷涂 石英 发色 防污 混料 面釉 配比 熔块 窑炉 配制 配方 送入 试验 检验 | ||
【主权项】：
1.一种负离子厚抛釉，其特征在于，包括以下重量份的原料混合制成：钾长石20‑40份、氧化锌2‑8份、煅烧滑石5‑15份、白云石1‑8份、硫酸钡5‑12份、碳酸锶1‑5份、硅灰石10‑20份、高岭土5‑10份、石英1‑5份、熔块10‑20份、负离子粉1‑3份。
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