[发明专利]一种转印装置、转印装置的制作方法和转印方法有效
| 申请号： | 201910319730.0 | 申请日： | 2019-04-19 |
| 公开（公告）号： | CN109927403B | 公开（公告）日： | 2021-06-29 |
| 发明（设计）人： | 田文亚;郭恩卿;郭双 | 申请（专利权）人： | 成都辰显光电有限公司 |
| 主分类号： | B41F16/00 | 分类号： | B41F16/00;B41F33/16;B41M5/382 |
| 代理公司： | 北京远智汇知识产权代理有限公司 11659 | 代理人： | 范坤坤 |
| 地址： | 611731 四*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种转印装置、转印装置的制作方法和转印方法。转印装置包括测试电极、测试电路和吸附单元。测试电极与测试电路电连接，测试电路用于对测试电极接触的微元件进行测试，吸附单元用于吸附测试合格的微元件。在转印过程中，控制测试电极与微元件接触电连接，为微元件提供测试信号。微元件在测试信号的作用下进行测试。当微元件测试合格后，吸附单元吸附测试合格的微元件进行转印，从而实现了在转印之前进行测试，并在转印过程中选择测试合格的微元件进行转印，提高了转印后的微元件的良率，并且在一次转印周期内可以完成巨量的转印，提高转印效率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 装置 制作方法 方法 | ||
【主权项】：
1.一种转印装置，其特征在于，包括：测试电极和测试电路；所述测试电极与所述测试电路电连接；所述测试电路用于对所述测试电极接触的微元件进行测试；吸附单元；所述吸附单元用于吸附测试合格的微元件。
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