[发明专利]基于LOD的模型制作方法及装置、存储介质及电子设备有效
| 申请号： | 201910257957.7 | 申请日： | 2019-04-01 |
| 公开（公告）号： | CN109960887B | 公开（公告）日： | 2023-10-24 |
| 发明（设计）人： | 韦康 | 申请（专利权）人： | 网易（杭州）网络有限公司 |
| 主分类号： | G06T17/00 | 分类号： | G06T17/00;G06T15/04;G06F30/13 |
| 代理公司： | 北京律智知识产权代理有限公司 11438 | 代理人： | 袁礼君;阚梓瑄 |
| 地址： | 310052 浙江省*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本公开涉及图像处理技术领域，具体涉及一种基于LOD的模型制作方法、一种基于LOD的模型制作装置、存储介质及电子设备。所述方法包括：获取高阶模型以及对应的贴图，并对所述贴图划分合并贴图和公共贴图；基于所述高阶模型按预设规则制作对应的低面数模型；根据所述低面数模型对所述贴图进行分配以获取所述贴图对应于所述低面数模型的UV；根据所述低面数模型的UV对所述贴图进行烘焙以获取低阶模型。本公开能够提升模型的制作效率，并能够有效降低研发成本、时间成本以及模型迭代成本。 | ||
| 搜索关键词： | 基于 lod 模型 制作方法 装置 存储 介质 电子设备 | ||
【主权项】：
1.一种基于LOD的模型制作方法，其特征在于，包括：获取高阶模型以及对应的贴图，并对所述贴图划分合并贴图和公共贴图；基于所述高阶模型按预设规则制作对应的低面数模型；根据所述低面数模型对所述贴图进行分配以获取所述贴图对应于所述低面数模型的UV；根据所述低面数模型的UV对所述贴图进行烘焙以获取低阶模型。
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