[发明专利]量子点层的图案化方法、量子点器件及其制备方法有效
申请号: | 201910232123.0 | 申请日: | 2019-03-26 |
公开(公告)号: | CN109904335B | 公开(公告)日: | 2021-11-12 |
发明(设计)人: | 何伟;李翔;吴慧利;李士佩;贺芳;顾仁权;徐胜;尹东升;赵雪飞;张立震;黎午升;姚琪 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | H01L51/50 | 分类号: | H01L51/50;H01L51/56 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 王晓燕 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 一种量子点层的图案化方法、量子点层图案、量子点器件及其制备方法和显示装置。该量子点层的图案化方法包括:形成量子点层,所述量子点层包括量子点和光引发剂;采用预设波长的光照射所述量子点层的预设部分,使所述预设部分中的所述量子点猝灭,以形成图案化的量子点层。采用该量子点层的图案化方法可以形成精细的量子点层的图案,从而,可以进一步形成高像素密度的彩色量子点电致发光器件。 | ||
搜索关键词: | 量子 图案 方法 器件 及其 制备 | ||
【主权项】:
1.一种量子点层的图案化方法,包括:形成量子点层,所述量子点层包括量子点和光引发剂;采用预设波长的光照射所述量子点层的预设部分,使所述预设部分中的所述量子点猝灭,以形成图案化的量子点层。
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