[发明专利]一种亚光砖去磨痕抛光液及其制备方法在审
| 申请号： | 201910059464.2 | 申请日： | 2019-01-22 |
| 公开（公告）号： | CN109852253A | 公开（公告）日： | 2019-06-07 |
| 发明（设计）人： | 陈爽;彭丽梅 | 申请（专利权）人： | 佛山市波义科技有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02 |
| 代理公司： | 北京联瑞联丰知识产权代理事务所(普通合伙) 11411 | 代理人： | 张清彦 |
| 地址： | 528500 广东省佛山市高明区*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种亚光砖去磨痕抛光液及其制备方法，属于抛光液技术领域，一种亚光砖去磨痕抛光液，其组成成分包括：抛光液A组分、抛光液B组分、抛光液C组分和抛光液D组分，所述抛光液A组分为硅溶胶，所述抛光液B组分为铝溶胶，所述抛光液C组分为分散剂和催化剂，所述抛光液D组分为去离子水，所述抛光液A组分、抛光液B组分、抛光液C组分和抛光液D组分，按照质量配比为，硅溶胶10‑30份、铝溶胶10‑30份、分散剂0.1‑0.5份和去离子水40‑80份，可以实现选择两种无机材料混合，既能修补亚光砖在砖坯水磨抛光过程中产生的磨痕，不改变原有瓷砖的光度，从而同时达到修补瓷砖磨痕和不改变瓷砖原有光度的双重效果。 | ||
| 搜索关键词： | 抛光液 磨痕 亚光 瓷砖 去离子水 分散剂 硅溶胶 铝溶胶 光度 制备 修补 砖坯 双重效果 水磨抛光 无机材料 质量配比 催化剂 | ||
【主权项】：
1.一种亚光砖去磨痕抛光液，其特征在于：其组成成分包括：抛光液A组分、抛光液B组分、抛光液C组分和抛光液D组分，所述抛光液A组分为硅溶胶，所述抛光液B组分为铝溶胶，所述抛光液C组分为分散剂和催化剂，所述抛光液D组分为去离子水，所述抛光液A组分、抛光液B组分、抛光液C组分和抛光液D组分，按照质量配比为，硅溶胶10‑30份、铝溶胶10‑30份、分散剂0.1‑0.5份和去离子水40‑80份。
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