[实用新型]曝光设备及具有该设备的光刻系统

摘要

本公开提出一种曝光设备及具有该设备的光刻系统。曝光设备包括多个曝光机、多个XCDA气体纯化器、多根主输送管路、支援输送管路、多个控制阀组以及控制机构。多个XCDA气体纯化器与多个曝光机一一对应。多根主输送管路分别连通于各对曝光机和XCDA气体纯化器之间。支援输送管路分别连通于多根主输送管路，支援输送管路具有多根分支管路，并通过多根分支管路分别连通于多根主输送管路。多个控制阀组分别设于多根主输送管路，控制阀组被配置为可调节地连通主输送管路与分支管路。控制机构分别连接于多个控制阀组，控制机构被配置为在任意XCDA气体纯化器故障或维护时，调节控制阀组，使正常工作的XCDA气体纯化器提供供气支援。

主权项

1.一种曝光设备，其特征在于，所述曝光设备包括：多个曝光机；多个XCDA气体纯化器，与多个所述曝光机一一对应；多根主输送管路，分别连通于各对所述曝光机和所述XCDA气体纯化器之间；支援输送管路，具有多根分支管路，并通过多根所述分支管路分别连通于多根所述主输送管路；多个控制阀组，分别设于多根所述主输送管路，所述控制阀组被配置为可调节地连通所述主输送管路与所述分支管路；以及控制机构，分别连接于多个所述控制阀组，所述控制机构被配置为在任意所述XCDA气体纯化器故障或维护时调节所述控制阀组，使正常工作的所述XCDA气体纯化器提供供气支援。