[实用新型]双光掩膜

摘要

本实用新型提供一种双光掩膜，双光掩膜包括第一光掩膜和第二光掩膜，在第一光掩膜和第二光掩膜上均形成有不透光区、多个对准图形及图形尺寸区域。采用上述双光掩膜得到的曝光有效图形尺寸大于26x33mm，并且可以解决双光掩膜曝光形成的多个曝光有效图形上下或左右组合时的对准问题，在前后层叠对时可以解决前后层光掩膜曝光之间的对准问题，从而使得产品得到良好的左右密合以及前后层对准。

主权项

1.一种双光掩膜，其特征在于，所述双光掩膜包括第一光掩膜和第二光掩膜，所述第一光掩膜包括：第一不透光区；第一部分图形形状；及多个对准图形；所述第二光掩膜包括：第二不透光区；第二部分图形形状；及多个对准图形；其中，所述第一部分图形形状和所述第二部分图形形状对扣形成一个完整的图形形状；所述第一不透光区位于所述第一光掩膜上与所述第二光掩膜相近的一侧；所述第二不透光区位于所述第二光掩膜上与所述第一光掩膜相近的一侧。