[实用新型]基片处理装置

摘要

本实用新型提供一种基片处理装置，其包括运送区块和多个处理区块。运送区块配置有用于运送基片的运送装置。多个处理区块与运送区块相邻配置，处理由运送装置运送的基片。另外，各处理区块包含一个液处理组件和一个干燥组件。液处理组件进行在基片的上表面形成液膜的液膜形成处理。干燥组件进行超临界干燥处理，超临界干燥处理通过使液膜形成处理后的基片与超临界状态的处理流体接触，使液膜形成处理后的基片干燥。而且，同一个处理区块包含的液处理组件和干燥组件相对于运送区块的运送装置的移动方向配置在相同侧。本实用新型能够最优化包含液处理和超临界干燥处理的一系列基片处理。

主权项

1.一种基片处理装置，其特征在于，包括：运送区块，其配置有用于运送基片的运送装置；和多个处理区块，其与所述运送区块相邻配置，处理由所述运送装置运送的基片，各处理区块包含一个液处理组件和一个干燥组件，所述液处理组件进行在所述基片的上表面形成液膜的液膜形成处理，所述干燥组件进行超临界干燥处理，所述超临界干燥处理通过使所述液膜形成处理后的基片与超临界状态的处理流体接触，使所述液膜形成处理后的基片干燥，同一个所述处理区块包含的所述液处理组件和所述干燥组件，相对于所述运送区块的所述运送装置的移动方向配置在相同侧。