[实用新型]一种PVD镀膜实验机有效

专利信息
申请号: 201821409665.8 申请日: 2018-08-30
公开(公告)号: CN208717424U 公开(公告)日: 2019-04-09
发明(设计)人: 夏白杨 申请(专利权)人: 深圳市智创谷技术有限公司
主分类号: C23C14/32 分类号: C23C14/32;C23C14/34;C23C14/35
代理公司: 北京华仲龙腾专利代理事务所(普通合伙) 11548 代理人: 李静
地址: 518000 广东省深圳*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 实用新型公开了一种PVD镀膜实验机,包括炉体,炉体左端设有真空腔入口,真空腔入口连接多泵体输送通道,多泵体输送通道中设有多个泵体,炉体中设有真空腔,炉体的真空腔中设有工作转架,工作转架上设有多个挂杆,炉体内设有多种不同的溅射源预留位,包括不同直径的中频圆柱磁控靶、矩形平面靶、多弧靶和离子源孔位,通过多种不同放射源包括不同直径的中频圆柱磁控靶、矩形平面靶、多弧靶和离子源孔位的更换和组合和组合,在保证PVD镀膜实验机满足其基本适用行业的基础上,可以为不同行业的镀膜及镀膜研究使用,满足多行多业对PVD镀膜实验机的需求,增加了PVD镀膜实验机的广泛适用性,本实用新型结构简单、实用性强、易于使用和推广。
搜索关键词: 实验机 真空腔 炉体 泵体 本实用新型 矩形平面靶 输送通道 磁控靶 离子源 镀膜 孔位 转架 放射源 入口连接 溅射源 预留位 多行 挂杆 左端 体内 保证 研究
【主权项】:
1.一种PVD镀膜实验机,包括炉体(1),其特征在于,所述炉体(1)左端设有真空腔入口(5),所述真空腔入口(5)连接多泵体输送通道,多泵体输送通道中设有多个泵体,所述炉体(1)中设有真空腔,所述炉体(1)的真空腔中设有工作转架(10),工作转架(10)上设有多个挂杆(9),所述炉体(1)内设有多种不同的溅射源预留位,包括不同直径的中频圆柱磁控靶、矩形平面靶、多弧靶和离子源孔位。
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