[实用新型]一种青绿色可钢化单银低辐射膜玻璃有效

专利信息
申请号: 201820515903.7 申请日: 2018-04-12
公开(公告)号: CN208182860U 公开(公告)日: 2018-12-04
发明(设计)人: 张山山;李险峰;刘宇;罗雨潇;邱宏;沈晓晨 申请(专利权)人: 中建材光电装备(太仓)有限公司
主分类号: C03C17/36 分类号: C03C17/36
代理公司: 安徽省蚌埠博源专利商标事务所 34113 代理人: 陈俊
地址: 215400 江苏省苏州市*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 实用新型公开一种青绿色可钢化单银低辐射膜玻璃,包括玻璃基底,玻璃基底顶面由下至上依次层叠有第一氮化硅层、第一镍铬层、银层、第二镍铬层、铬层与第二氮化硅层;第一氮化硅层的厚度为30nm、第一镍铬层的厚度为3nm、银层的厚度为8nm、第二镍铬层的厚度为3nm、铬层的厚度为3nm、第二氮化硅层的厚度为61nm;本实用新型合理搭配各膜层厚度,得到呈现青绿色可钢化单银低辐射膜玻璃,膜系结构合理,满足钢化要求;本实用新型只需采用常规靶材,利用磁控溅射工艺即可制备,成本低、工艺过程可控、稳定性高。
搜索关键词: 氮化硅层 镍铬层 钢化 低辐射膜玻璃 本实用新型 青绿色 玻璃基 铬层 银层 磁控溅射工艺 工艺过程 膜系结构 依次层叠 靶材 顶面 可控 膜层 制备 搭配
【主权项】:
1.一种青绿色可钢化单银低辐射膜玻璃,其特征在于,包括玻璃基底,玻璃基底顶面由下至上依次层叠有第一氮化硅层、第一镍铬层、银层、第二镍铬层、铬层与第二氮化硅层;所述第一氮化硅层的厚度为30nm、第一镍铬层的厚度为3nm、银层的厚度为8nm、第二镍铬层的厚度为3nm、铬层的厚度为3nm、第二氮化硅层的厚度为61nm。
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