[实用新型]一种有机光电倍增探测器有效

专利信息
申请号: 201820128920.5 申请日: 2018-01-25
公开(公告)号: CN208078030U 公开(公告)日: 2018-11-09
发明(设计)人: 董春梅 申请(专利权)人: 南京古藤星电子科技有限公司
主分类号: H01L51/44 分类号: H01L51/44;H01L51/46;H01L27/144
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 210008 江苏省南京市江*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 实用新型属于光电探测技术领域,具体为一种有机光电倍增探测器,包括基底(1),其特征在于:所述的基底(1)上设置有光电倍增层(2),所述的光电倍增层(2)为双层复合结构,包括第一光电倍增层(201)和第二光电倍增层(202),所述的第一光电倍增层(201)为TPBI,第一光电倍增层(201)厚度为2‑5 nm,所述的第二光电倍增层(202)设置在第一光电倍增层(201)之上,第二光电倍增层(202)为MoO3,第二光电倍增层(202)的厚度为5 nm,所述的光电倍增层(2)上设置光吸收层(3),所述的光吸收层(3)上设置有阴极缓冲层(4),所述的阴极缓冲层(4)上设置反射电极层(5)。
搜索关键词: 倍增层 阴极缓冲层 光吸收层 探测器 基底 倍增 双层复合结构 本实用新型 反射电极层 光电探测
【主权项】:
1.一种有机光电倍增探测器,包括基底(1),其特征在于:所述的基底(1)上设置有光电倍增层(2),所述的光电倍增层(2)为双层复合结构,包括第一光电倍增层(201)和第二光电倍增层(202),所述的第一光电倍增层(201)为TPBI,第一光电倍增层(201)厚度为2‑5 nm,所述的第二光电倍增层(202)设置在第一光电倍增层(201)之上,第二光电倍增层(202)为MoO3,第二光电倍增层(202)的厚度为5 nm,所述的光电倍增层(2)上设置光吸收层(3),所述的光吸收层(3)上设置有阴极缓冲层(4),所述的阴极缓冲层(4)上设置反射电极层(5)。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于南京古藤星电子科技有限公司,未经南京古藤星电子科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201820128920.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top