[发明专利]一种通用掩模夹盘在审
申请号: | 201811650687.8 | 申请日: | 2018-12-31 |
公开(公告)号: | CN109557763A | 公开(公告)日: | 2019-04-02 |
发明(设计)人: | 陈青 | 申请(专利权)人: | 无锡中微掩模电子有限公司 |
主分类号: | G03F1/68 | 分类号: | G03F1/68;B25B11/00 |
代理公司: | 连云港联创专利代理事务所(特殊普通合伙) 32330 | 代理人: | 刘刚 |
地址: | 214000 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明公开了一种通用掩模夹盘,包括外部夹盘和内部夹盘,外部夹盘内侧设有内部夹盘,外部夹盘底部四周均匀设有四个固定轴,外部夹盘通过底部的固定轴固定于内部夹盘的外侧,外部夹盘顶部均匀设有四个七寸版限位杆,内部夹盘上靠内侧均匀设有四个五寸版限位杆,内部夹盘上靠外侧均匀设有四个六寸版限位杆,五寸版限位杆和六寸版限位杆均与内部夹盘固定连接,且每个七寸版限位杆、五寸版限位杆以及六寸版限位杆内侧均设有L型卡槽,本发明所达到的有益效果是:本发明结构紧凑,使用方便,功能实用,较传统的夹盘而言,无需在制作不同尺寸的掩模时更换夹盘,既省时又省力。 | ||
搜索关键词: | 夹盘 限位杆 外部 通用掩模 固定轴 传统的 省时 掩模 省力 制作 | ||
【主权项】:
1.一种通用掩模夹盘,其特征在于,包括外部夹盘(1)和内部夹盘(2),所述外部夹盘(1)内侧设有内部夹盘(2),所述外部夹盘(1)底部四周均匀设有四个固定轴(3),所述外部夹盘(1)通过底部的固定轴(3)固定于内部夹盘(2)的外侧,所述外部夹盘(1)顶部均匀设有四个七寸版限位杆(4),所述内部夹盘(2)上靠内侧均匀设有四个五寸版限位杆(5),所述内部夹盘(2)上靠外侧均匀设有四个六寸版限位杆(6),所述五寸版限位杆(5)和六寸版限位杆(6)均与内部夹盘(2)固定连接,且每个所述七寸版限位杆(4)、五寸版限位杆(5)以及六寸版限位杆(6)内侧均设有L型卡槽。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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