[发明专利]一种FDSOI可控硅静电保护器件有效

专利信息
申请号: 201811570471.0 申请日: 2018-12-21
公开(公告)号: CN109742070B 公开(公告)日: 2021-07-30
发明(设计)人: 丁玎;谢峰;何峰;曾庆平 申请(专利权)人: 中国电子科技集团公司第四十八研究所
主分类号: H01L27/02 分类号: H01L27/02
代理公司: 湖南兆弘专利事务所(普通合伙) 43008 代理人: 周长清
地址: 410111 湖南*** 国省代码: 湖南;43
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摘要: 发明公开了一种内嵌GGNMOS和GDPMOS的FDSOI可控硅静电保护器件,包括N阱和P阱,N阱和P阱邻接,N阱内设有第一P+注入区,P阱内设有第一N+注入区,N阱与P阱的交界处嵌设有第二P+注入区和第二N+注入区。基于FDSOI的全介质隔离特点,本发明将GGNMOS与GDPMOS内嵌到SCR路径上,从而提高其静电放电效率,而且具有低触发电压、高维持电压、结构简单、易于集成等优点,适用于FDSOI器件及电路的静电保护。
搜索关键词: 一种 fdsoi 可控硅 静电 保护 器件
【主权项】:
1.一种FDSOI可控硅静电保护器件,其特征在于,包括N阱(11)和P阱(12),所述N阱(11)和P阱(12)邻接,所述N阱(11)内设有第一P+注入区(13),所述P阱(12)内设有第一N+注入区(15),所述N阱(11)与P阱(12)的交界处嵌设有第二P+注入区(17)和第二N+注入区(18)。
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