[发明专利]新型光刻胶去胶液在审
| 申请号： | 201811532499.5 | 申请日： | 2018-12-14 |
| 公开（公告）号： | CN109445256A | 公开（公告）日： | 2019-03-08 |
| 发明（设计）人： | 杜冰;方磊;刘伟;梁豹;张兵;赵建龙;向文胜;朱坤;陆兰 | 申请（专利权）人： | 江苏艾森半导体材料股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/42 | 分类号： | G03F7/42 |
| 代理公司： | 北京科亿知识产权代理事务所(普通合伙) 11350 | 代理人： | 汤东凤 |
| 地址： | 215000 江苏省苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明属于晶圆制造技术领域，涉及一种新型光刻胶去胶液，其配方包括：1‑5wt％醇类、10‑30wt％有机醇胺、0.1‑5wt％季铵碱、60‑80wt％醇醚类有机溶剂以及补足余量的去离子水，所述醇醚类有机溶剂包括乙二醇单丁醚、乙二醇单甲醚、丙二醇单丁醚、二乙二醇单甲醚、二乙二醇单丁醚中的一种。本发明的新型光刻胶去胶液不仅对光刻胶去胶有良好的选择性，而且相同体积的去胶液处理量更大且稳定。 | ||
| 搜索关键词： | 去胶液 光刻胶 醇醚类有机溶剂 二乙二醇单丁醚 二乙二醇单甲醚 丙二醇单丁醚 乙二醇单丁醚 乙二醇单甲醚 去离子水 有机醇胺 处理量 季铵碱 醇类 晶圆 去胶 配方 制造 | ||
【主权项】：
1.一种新型光刻胶去胶液，其特征在于配方包括：1‑5wt％醇类、10‑30wt％有机醇胺、0.1‑5wt％季铵碱、60‑80wt％醇醚类有机溶剂以及补足余量的去离子水，所述醇醚类有机溶剂包括乙二醇单丁醚、乙二醇单甲醚、丙二醇单丁醚、二乙二醇单甲醚、二乙二醇单丁醚中的一种。
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