[发明专利]基于比较法校准正压漏孔的分子流进样系统及控制方法

摘要

本发明涉及一种基于比较法校准正压漏孔的分子流进样系统及控制方法，提出基于动态分子流进样方法和累积分子流进样方法相结合的示漏气体进样系统和方法，在漏孔泄漏的气体累积一段时间后，在一套比较法正压漏孔校准系统上、实现了动态比较和累积比较两种质谱分析方法的分子流进样，突破了比较法校准正压漏孔质谱分析进样的关键技术，并且解决了累积法条件下、正压漏孔校准过程中混合气体分子流进样和微量He气累积测量的技术难题。

主权项

1.一种基于比较法校准正压漏孔的分子流进样系统，其特征在于：包括机械泵RP、分子泵TMP、第一真空阀门V1、第二真空阀门V2、第三真空阀门V3、第四真空阀门V4、第五真空阀门V5、第六真空阀门V6、第七真空阀门V7、质谱分析装置VC1、第一真空计G1、第二真空计G2、吸气剂泵NEG、第一分子流进样元件C1、第二分子流进样元件C2和四极质谱仪QMS；其中，机械泵RP分别与第一真空阀门V1的其中一端、第二真空阀门V2的其中一端相连接；第一真空阀门V1的另一端与分子泵TMP的抽气出口相连接；分子泵TMP的抽气入口分别与第一真空计G1、第二真空阀门V2的另一端、第三真空阀门V3的其中一端相连接；第三真空阀门V3的另一端分别与第四真空阀门V4的其中一端、第一分子流进样元件C1的其中一端连接；第四真空阀门V4的另一端和第一分子流进样元件C1的另一端与质谱分析装置VC1相连接；质谱分析装置VC1分别与第五真空阀门V5的其中一端、第二真空计G2、四极质谱仪QMS、第六真空阀门V6的其中一端、第二分子流进样元件C2的其中一端相连接；第五真空阀门V5的另一端与吸气剂泵NEG相连接；第六真空阀门V6的另一端、第二分子流进样元件C2的另一端、第七真空阀门V7的其中一端三者相对接；第七真空阀门V7的另一端对接混合气取样系统。