[发明专利]光掩模坯料和制备光掩模的方法

摘要

本发明体积一种光掩模坯料和制备光掩模的方法。具体提供一种包含透明衬底和含铬膜的光掩模坯料。该含铬膜包括由含氧或者氧和氮的含碳的铬化合物组成的层。该层的碳/铬原子比是0.3以上，氮/铬原子比是0.1以下，铬含量是50at％以下且碳/氧原子比是0.8以上，或铬含量是60at％以下且碳/氧原子比是1以上。通过干法刻蚀含铬膜将光掩模坯料加工成光掩模。

主权项

1.一种光掩模坯料，使用波长250nm以下的曝光光将其加工成适于图案转印的光掩模，所述光掩模坯料包括透明衬底和含铬膜，所述含铬膜直接设置在衬底上或通过光学膜设置在衬底上，且能够用含氧的氯基气体干法刻蚀，其中所述含铬膜由单层或多层构成，所述单层或所述多层中的至少一层是由含氧或者氧和氮的含碳的铬化合物组成的层，所述由含氧或者氧和氮的含碳的铬化合物组成的层具有如下组成：碳与铬的原子比是0.3以上，氮与铬的原子比是0.1以下，铬含量是50at％以下且碳与氧的原子比是0.8以上，或铬含量是60at％以下且碳与氧的原子比是1以上。