[发明专利]两面曝光装置及两面曝光方法

摘要

本发明的目的是在一对掩模的校准的同时也要求对于基板的校准的两面曝光装置中，有效地解决在基板标记从照相机的视野脱离的状态下基板停止的问题。通过曝光单元(2)经由配置在夹着被输送系统(1)从卷拉出并间歇性地进给的基板(W)的位置处的一对第一第二掩模(3、4)将光向基板(W)照射而曝光。在曝光之前，照相机(8)对第一掩模(3)的校准标记(31)、第二掩模(4)的校准标记(41)及基板(W)的校准用开口(Wm)进行摄影，根据其摄影数据，校准机构进行校准。当输送系统(1)使基板(W)停止时照相机(8)没有摄影到校准用开口(Wm)的情况下，进行基板(W)的回送或进给，成为照相机(8)摄影到校准用开口(Wm)的状态。

主权项

1.一种两面曝光装置，其特征在于，具备：输送系统，将被卷成卷的柔性的基板拉出而间歇性地进给；一对第一第二掩模，配置在夹着被进给的基板的位置；以及曝光单元，在输送系统使基板停止而校准后，经由各掩模向基板照射光，对基板的两面进行曝光；基板具有相对于应曝光的区域以规定的位置关系设置的校准用开口；第一掩模具有作为校准用的标记的第一掩模标记；第二掩模具有作为校准用的标记的第二掩模标记；设置有能够对第一掩模标记、第二掩模标记及基板的校准用开口进行摄影的照相机；设置有根据来自对第一掩模标记、第二掩模标记及校准用开口进行了摄影的照相机的摄影数据、将第一第二掩模相对于基板的应曝光区域对位的校准机构；具备在输送系统使基板停止时照相机没有摄影到基板的校准用开口的情况下、控制输送系统而进行基板的回送或进给、以成为照相机摄影到基板的校准用开口的状态的控制单元。